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等离子uv光氧光解除臭设备

等离子uv光氧光解除臭设备

产品分类:uv光氧废气处理设备
产品简介: 等离子、uv光解除臭设备又称等离子光解一体机,其主要原理是在高压电场作用下,产生大量的正、负氧离子,具有很强的氧化性。能在极短的时间内氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氢、醚类、胺类等污染臭气因子,打开有机挥......

产品详情

  等离子、uv光解除臭设备又称等离子光解一体机,其主要原理是在高压电场作用下,产生大量的正、负氧离子,具有很强的氧化性。能在极短的时间内氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氢、醚类、胺类等污染臭气因子,打开有机挥发性气体的化学键,最终生成二氧化碳和水等稳定无害的小分子,从而达到净化空气的目的。

  等离子、uv光解除臭设备适用于:垃圾、污水厂等市政设施,以及制药厂、油漆厂、涂料厂、皮革厂、石油化工、农药厂、制药厂、印刷厂、造纸厂、饲料加工厂等等工业场所。

  低温等离子净化工作原理

  采用低温等离子体分解油雾、废气等污染介质时,等离子体中的高能离子起决定性的作用。流星雨壮的高能离子与介质内分子(原理)发生非弹性碰撞,将能量转化成基态分子(原子)的内能,发生激发、离解、电离等一系列过程使污染介质处于活化状态。污染节制在等离子体的作用下‘产生活性自由基’活化后的污染物分子经过等离子体定向连化学反应后被脱除。当离子平均能量超过污染介质中化学键结合能时,分子键断裂,污染介质分解,并在等离子发生器吸附场的作用下被收集。在低温等离子体中,可能发生各类的化学反应,这主要取决于等离子的平均能量、离子密度、气体温度、污染物介质内分子浓度及共存的介质成分

  对气态有机污染物的降解机理

  有足够的能量来产生自由基,引发一系列复杂的物理、化学反应。由低温等离子体引起的气体有机物化学反应是在气相中进行的电离、离解、激发、原子、分子间的相互结合及加成反应。这个能量足以使大多数气态有机物中的化学键发生断裂,从而使其降解。

  从净化空气效率考虑,我们选择了电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放电低温等离子体与吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除,其中低温等离子体主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、树脂、等气体及消毒霉菌,吸附材料主要用于去除二氧化碳以及臭氧等副产物。净化装置由初滤单元、低温等离子体发生器及过滤单元、风机等设备和部件组成。

  初级电子在电场中获得加速,撞击空气中的氧分子。当能量超过氧分子的电离电位时氧分子由于另一中性分子结合变成负极性氧离子(02-),结果是氧离子的两极分化并吸附中性氧分子形成02+、02-、02等氧聚集的离子群,具有极强的氧化性,科在很短的时间内将污染空气中的有害成分氧化分解为无害的产物和水。